Консультант:
+7(7232) 26 44 09
с 10:00 до 19:00 в раб. дни
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии

Автор: Берлин Е.В.

Рейтинг:
(0)

Раздел: Материаловедение. Нанотехнологии

Издательство: Техносфера
ISBN: 978-5-94836-222-9
Год: 2010

Переплет: твердый переплет
Страниц: 528
Язык: русский
Формат: 70x100/16 (170x240 мм)

6 115 тг.

Количество

Поступление на склад 29.12.2016
Поделиться:

Настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по основным вакуумным плазмохимическим процессам в тонкопленочной технологии - реактивному магнетронному нанесению тонких пленок и ионно-плазменному травлению. В ней обобщено современное состояние этих процессов. Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Приведены принципы конструирования источника высокочастотного разряда высокой плотности для ионного или плазмохимического прецизионного травления тонких пленок, а также его использования для стимулированного плазмой осаждения тонких пленок. Книга рассчитана на специалистов, занимающихся исследованием, разработкой и изготовлением различных изделий электронной техники и нанотехнологии, совершенствованием технологии их производства и изготовлением специализированного оборудования. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.

  • Комментарии
Загрузка комментариев...

Похожие товары:

0 Корзина
Стоимость
заказа: 0 тг.
Перейти в корзину для оформления заказа
0
Закладки
Посмотреть